出版時間:2012-1 出版社:科學(xué)出版社 作者:國家自然科學(xué)基金委員會,中國科學(xué)院 編 頁數(shù):94
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內(nèi)容概要
本書是國家自然科學(xué)基金委員會和中國科學(xué)院合作開展"2011~2020年我國學(xué)科發(fā)展戰(zhàn)略研究"的成果。本書從數(shù)學(xué)學(xué)科的特點與戰(zhàn)略地位、發(fā)展規(guī)律和趨勢、發(fā)展現(xiàn)狀與布局、國際交流與合作等方面對數(shù)學(xué)學(xué)科未來十年的發(fā)展進行了系統(tǒng)、權(quán)威和科學(xué)的分析探討,并就優(yōu)先發(fā)展領(lǐng)域和重大交叉研究領(lǐng)域進行了預(yù)測和探討,書稿還為學(xué)科的科學(xué)發(fā)展提出了很多有價值的保障措施和決策建議。
書籍目錄
總序(路甬祥陳宜瑜)
前言
摘要
Abstract
第一章 學(xué)科研究特點與戰(zhàn)略地位
第二章 學(xué)科發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
第一節(jié) 基礎(chǔ)數(shù)學(xué)的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
第二節(jié) 應(yīng)用數(shù)學(xué)的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
第三節(jié) 計算數(shù)學(xué)與科學(xué)工程計算的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
第四節(jié) 統(tǒng)計學(xué)與海量數(shù)據(jù)分析的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
第五節(jié) 數(shù)學(xué)與其他學(xué)科交叉的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
第三章 我國數(shù)學(xué)的發(fā)展現(xiàn)狀
第四章 我國數(shù)學(xué)學(xué)科的發(fā)展布局
第五章 優(yōu)先發(fā)展領(lǐng)域與重大交叉研究領(lǐng)域
一、基礎(chǔ)數(shù)學(xué)
二、應(yīng)用數(shù)學(xué)
三、計算數(shù)學(xué)與科學(xué)工程計算
四、統(tǒng)計學(xué)與海量數(shù)據(jù)分析
五、數(shù)學(xué)與其他學(xué)科交叉的若干重大問題
第六章 國際合作與交流
第七章 保障措施與建議
第一節(jié) 建立合理的科學(xué)評價體系
第二節(jié) 培養(yǎng)和穩(wěn)定高水平的數(shù)學(xué)人才
第三節(jié) 建設(shè)一些有國際影響的研究基地
第四節(jié) 加大對數(shù)學(xué)學(xué)科的穩(wěn)定支持
第五節(jié) 要關(guān)注基礎(chǔ)教育的重要性
參考文獻
章節(jié)摘錄
版權(quán)頁:當前材料科學(xué)的中心問題是新型材料的設(shè)計及相應(yīng)的器件制備,研究的焦點從原子、分子體系一直延續(xù)到凝聚態(tài)體系,還涉及材料的力、熱、電、光、磁等多方面行為,高度各向異性和非均勻性的新材料呈現(xiàn)出一些與傳統(tǒng)材料不同的新特征。研制新材料急需解決的關(guān)鍵科學(xué)工程問題,涉及對復(fù)雜體系建立更準確有效的數(shù)學(xué)模型并進行高效數(shù)值求解的過程,但這些過程非常復(fù)雜,往往跨越多個時空尺度,并涉及多個物理、化學(xué)甚至生物反應(yīng)過程。新材料問題的上述特性使得單一尺度模型往往難以精確描述物理現(xiàn)象,因而越來越傾向于采用多尺度、多場、多過程耦合的數(shù)學(xué)模型,在不同區(qū)域或不同物理層次運用不同的物理規(guī)律。這些模型能夠有效集成不同尺度上的信息,更好地反映物性機理,從而使得對復(fù)雜物理以及生化過程的可靠預(yù)測與設(shè)計成為可能。模擬計算作為理論和實驗的補充手段,可以實現(xiàn)“自下而上”地研究材料的結(jié)構(gòu)一功能關(guān)系,給出了“材料設(shè)計”的全新理念。數(shù)值模擬在對材料特性本質(zhì)的認識、新型功能材料的設(shè)計等方面起著非常重要的作用,這是一個極具魅力的研究領(lǐng)域。低維材料、納米材料設(shè)計中的數(shù)學(xué)模型與算法的研究也是當前科學(xué)與工程計算領(lǐng)域的研究熱點之一,是面臨全新挑戰(zhàn)的課題。對于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)來講,摩爾定律仍然繼續(xù)譜寫著神話,集成電路上晶體管的密度每兩年便會增加一倍。一方面,采用深紫外(波長193納米)光刻的45納米的制造工藝已經(jīng)投入生產(chǎn),32納米的制造工藝已經(jīng)準備就緒。另一方面,極紫外(波長13.5納米)光刻技術(shù)推出的延遲,使得2011年應(yīng)當準備就緒的22納米制造工藝還需建立在深紫外光刻技術(shù)之上,印制圖形的尺寸幾乎是所使用曝光波長的1/9。通過模擬來設(shè)計和優(yōu)化掩模、實現(xiàn)更好分辨率的計算光刻技術(shù),已經(jīng)被所有主要的掩模供貨商認為是22納米及其更高密度所要求的技術(shù)。同時,復(fù)雜的半導(dǎo)體芯片的版圖設(shè)計和物理驗證也提出了更高的要求。
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《未來10年中國學(xué)科發(fā)展戰(zhàn)略:數(shù)學(xué)》編輯推薦:“未來10年中國學(xué)科發(fā)展戰(zhàn)略”叢書是國家自然科學(xué)基金委員會和中國科學(xué)院學(xué)部歷時兩年多聯(lián)合開展研究的重要成果,凝聚著600多位院士、專家的智慧和心血,對廣大科技工作者洞悉學(xué)科發(fā)展規(guī)律、了解前沿領(lǐng)域和重點方向及開展科技創(chuàng)新等有重要的參考價值,對促進我國學(xué)科均衡、協(xié)調(diào)、可持續(xù)發(fā)展必將發(fā)揮積極作用。《未來10年中國學(xué)科發(fā)展戰(zhàn)略?數(shù)學(xué)》全面總結(jié)了近年來數(shù)學(xué)的研究現(xiàn)狀和研究動態(tài),客觀分析了學(xué)科發(fā)展態(tài)勢,從學(xué)科的發(fā)展規(guī)律和研究特點出發(fā),前瞻性地思考了學(xué)科的整體布局,提出了數(shù)學(xué)的重要科學(xué)問題、前沿方向及我國發(fā)展該學(xué)科領(lǐng)域的政策措施等。《未來10年中國學(xué)科發(fā)展戰(zhàn)略:數(shù)學(xué)》不僅對相關(guān)領(lǐng)域科技工作者和高校師生有重要的參考價值,同時也是科技管理者和社會公眾了解數(shù)學(xué)發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢的權(quán)威讀本。
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