力學中的哥德巴赫猜想

內(nèi)容概要

《力學中的哥德巴赫猜想——受徑向力圓環(huán)中應力計算與應用》由孫以材、孟慶浩、汪鵬、王如著，本書的寫作目的是攀登世界力學高峰——得到含義清晰又簡練的理論計算公式，并繪制出與光測彈性力學試驗相一致、示于封面的圖案。本書從彈性力學基礎出發(fā)，介紹了莫爾圓和最大切應力、Airy雙調(diào)和方程的建立和應力函數(shù)的概念以及方程的通解和特解。本書還對受徑向力圓環(huán)進行了x射線分析。測定了受力圓環(huán)中的應力、應變，得到了不同晶向各向異性的應變的重要結(jié)果，又對各向異性的應變及剛度作了機理分析。最后介紹了力學中的有限元方法及受徑向力圓環(huán)作為測力計的應用。
《力學中的哥德巴赫猜想——受徑向力圓環(huán)中應力計算與應用》適合作為大學及同等學力力學專業(yè)的教材，也可供廣大科技工作者和工程技術(shù)人員閱讀、參考。

書籍目錄

1 緒論
2 固體的物質(zhì)常數(shù)及物理量的坐標變換
3 格林定理及其推導與應用
4 彈性力學基礎與平面應變場的燦ry方程
5 X射線技術(shù)在晶體結(jié)構(gòu)及應力、應變分析中的應用
6 各向異性情況下的應變
7 彈性圓環(huán)力傳感器的制造與實際應用
8 應力場數(shù)值計算有限元方法
9 受多重對稱性力圓環(huán)中的應力分析
參考文獻

章節(jié)摘錄

版權(quán)頁：   插圖：   5.5.1.3 600℃退火和未退火ZnO薄膜XRD的比較 實驗采用北京電子專用設備技術(shù)服務中心研制的JCK—500E磁控濺射儀制備薄膜。工藝參數(shù)為：真空度為3×10～Pa，氧分壓為0.2Pa，濺射總氣壓為1.2Pa。靶到基片距離為7.5cm。濺射電壓為390V，濺射電流為0.15A，濺射時間為30min?；瑸镾i（111）和陶瓷片兩種。實驗氣體為高純的氬氣和氧氣，靶材為純度為99.99％的金屬鋅。 實驗中將Si基片和陶瓷片用無水乙醇清洗表面。清洗后的Si基片和陶瓷片放置到樣品盤中，放人濺射儀的樣品室中。開機械泵抽真空室至粗真空，達到2×10—3Pa量程后，打開分子泵，抽高真空至3 × 10—5Pa后，通人氬氣，流量為140cm3/s，開濺射電源，進行煉靶，出現(xiàn)亮的藍白色輝光后通入氧氣，并調(diào)節(jié)氧氣與氬氣流量（cm3/s）比為：20：100。濺射時間持續(xù)30min，制備出ZnO薄膜。 利用天津試驗電爐廠生產(chǎn)的KSP—80—18型馬弗爐對濺射的樣品進行退火處理，退火溫度分別為600℃、900℃、1200℃，為了確保退火徹底，恒溫3h，自然冷卻后取出。 圖5—26為Zn0薄膜（基片為Si（111））在不同的退火溫度下的XRD圖。x射線衍射試驗設備為荷蘭PAN—Alytical公司的XPert型X射線衍射儀，Cu靶，偏壓40kV。 由圖5—25可以看出：ZnO薄膜未經(jīng)退火的時候，只有一個衍射峰，其位置為28.4°。經(jīng)過600℃退火處理后，又出現(xiàn)了兩個衍射峰，位置分別為38.2°和45.3°。經(jīng)過計算可以知道，位置在28.4°的衍射峰為Si（111）的衍射峰。位置在38.2°和45.3°。的衍射峰分別為ZnO（101）和ZnO（102）的衍射峰。這說明在未退火的時候，Zn0薄膜為不定形態(tài)，當進行6000C退火、3h恒溫處理后，ZnO薄膜晶化，主要出現(xiàn)兩個晶向，分別為（101）和（102），相比這兩個晶向，（102）晶向占優(yōu)勢。我們從薄膜的XRD衍射圖（圖5—26）中發(fā)現(xiàn)，（101）衍射峰不是很平滑，出現(xiàn)一些噪聲，分析認為：薄膜生長過程中，薄膜內(nèi)部存在著成分的起伏，加上空間的限制，晶粒與晶粒互相擠壓，致使晶界處存在著較大應力，并且存在大量的位錯、斷鍵等缺陷。退火處理后可以釋放內(nèi)應力，修補斷鍵，彌合位錯，使偏離平衡位置的Zn原子能夠獲得足夠的能量擴散到晶格位置，使晶相得到改善。根據(jù)Scherrer公式：D=Kλβcosθ，可以計算出600℃退火樣品的平均粒徑為38nm。

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