真空微電子學及其應用

內(nèi)容概要

真空微電子學是一門新興交叉學科，涉及到真空電子學、微電子學、薄膜技術和材料科學等多門學科和技術。本書從真空微電子學的形成、發(fā)展歷史和最新動態(tài)出發(fā)，系統(tǒng)地介紹了真空微電子學的物理基礎，即場致發(fā)射理論和其他相關物理原理，詳細地討論了微細結構制造技術、真空微電子器件工作特性的數(shù)值模擬和器件結構設計，著重闡述了真空微電子學的應用及其對未來電子學發(fā)展的巨大影響。     本書可作為高等院電子信息技術、通信技術、微電子學及相關專業(yè)的高年級本科生教材，也可供從事真空微電子學研究與開發(fā)的專業(yè)技術人員參考。

書籍目錄

1 緒論  1.1 引言   1.2 真空微電子學的發(fā)展歷史  1.3 真空微電子學的特點和內(nèi)容  1.4 真空微電子學的應用與發(fā)展趨勢  思考題與習題  參考文獻 2 場致發(fā)射  2.1 引言  2.2 表面電子特性  2.3 金屬場致發(fā)射  2.4 半導體場致發(fā)射  2.5 內(nèi)場致發(fā)射  2.6 場致發(fā)射電子的能量分布和Nottingham效應  2.7 空間電荷效應  思考題與習題  參考文獻3 器件物理與特性分析  3.1 引言  3.2 場致發(fā)射公式的特性  3.3 真空條件和FEA結構分析  3.4 FEA結構優(yōu)化和理論極限  3.5 FEA熱穩(wěn)定性和材料選擇  3.6 FEA陣列特性估算  思考題與習題  參考文獻4 數(shù)值計算與器件特性模擬  4.1 引言  4.2 數(shù)值計算模型的建立  4.3 靜電場的數(shù)值模擬  4.4 電子軌跡及發(fā)射電流的計算  4.5 場致發(fā)射器件特性模擬  思考題與習題  參考文獻5 器件制造與工藝  5.1 引言  5.2 縱向器件的制備  5.3 橫向器件的制備  5.4 器件封裝  5.5 器件制備中所涉及的重要工藝  思考題與習題  參考文獻6 真空微電子器件  6.1 引言  6.2 真空集成電路有源元件  6.3 高頻和微波器件  6.4 電子源和微電子光學系統(tǒng)  6.5 場致發(fā)射顯示屏  6.6 傳感技術  6.7 顯微技術  思考題與習題  參考文獻

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