薄膜材料與薄膜技術(shù)

內(nèi)容概要

本書系統(tǒng)闡述了薄膜材料與薄膜技術(shù)的基本原理和基本知識，重點(diǎn)介紹了薄膜材料的真空制備技術(shù)、薄膜的化學(xué)制備和物理氣相沉積方法、薄膜的形成和生長原理、薄膜的表征，對目前廣泛研究和應(yīng)用的幾種主要薄膜材料進(jìn)行了介紹、評述和展望。    本書技術(shù)先進(jìn)，內(nèi)容實(shí)用，適合于從事材料研究的科研、技術(shù)人員閱讀參考，同時(shí)也可作為高校材料專業(yè)教材使用。

書籍目錄

第一章　真空技術(shù)基礎(chǔ)  第一節(jié)　真空的基本知識    一、表示真空程度的單位    二、真空區(qū)域的劃分    三、固體對氣體的吸附及氣體的脫附  第二節(jié)　真空的獲得    一、旋片式機(jī)械真空泵    二、復(fù)合分子泵    三、低溫泵  第三節(jié)　真空的測量    一、電阻真空計(jì)    二、熱偶真空計(jì)    三、電離真空計(jì)　參考文獻(xiàn)第二章　薄膜制備的化學(xué)方法  第一節(jié)　熱氧化生長  第二節(jié)　化學(xué)氣相沉積    一、一般化學(xué)氣相沉積反應(yīng)    二、化學(xué)氣相沉積制備薄膜的傳統(tǒng)方法    三、激光化學(xué)氣相沉積    四、光化學(xué)氣相沉積    五、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積  第三節(jié)　電鍍  第四節(jié)　化學(xué)鍍  第五節(jié)　陽極反應(yīng)沉積  第六節(jié)　LB技術(shù)　參考文獻(xiàn)第三章　薄膜制備的物理方法  第一節(jié)　真空蒸發(fā)    一、真空蒸發(fā)沉積的物理原理    二、真空蒸發(fā)技術(shù)  第二節(jié)　濺射    一、濺射的基本原理    二、濺射鍍膜的特點(diǎn)    三、濺射參數(shù)    四、濺射裝置  第三節(jié)　離子束和離子助    一、離子鍍    二、陰極電弧等離子體沉積    三、熱空陰極槍蒸發(fā)    四、離子轟擊共沉積    五、非平衡磁控離子助沉積    六、離子束沉積  第四節(jié)　外延生長    一、分子束外延（MBE）    二、液相外延生長（LPE）      三、熱壁外延生長（HWE）    四、有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積（MOCVD）　參考文獻(xiàn)第四章　薄膜的形成與生長  第一節(jié)　形核    一、凝聚過程    二、LangmuIR-Frenkel凝聚理論      三、成核理論    四、實(shí)驗(yàn)結(jié)果  第二節(jié)　生長過程    一、一般描述    二、類液體合并    三、沉積參數(shù)的影響  第三節(jié)　薄膜的生長模式  第四節(jié)　遠(yuǎn)離平衡態(tài)薄膜生長    一、粗糙表面的結(jié)構(gòu)和生長    二、簡單模型    三、薄膜生長模型的實(shí)驗(yàn)研究　參考文獻(xiàn)第五章　薄膜表征  第一節(jié)　薄膜厚度控制及測量    一、沉積率和厚度監(jiān)測儀　……第六章　薄膜材料參考文獻(xiàn)

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