陶瓷表面技術(shù)

內(nèi)容概要

干式陶瓷表面技術(shù)是涉及材料、機械、光、電等學(xué)科交叉的一個邊緣學(xué)科，也是當(dāng)今高新技術(shù)領(lǐng)域的一個分支。它對社會的經(jīng)濟(jì)、環(huán)境以及技術(shù)的提升和產(chǎn)品的換代起著十分重要的保障和促進(jìn)作用?！　”緯^全面地介紹了各種干式陶瓷表面技術(shù)，如各種陶瓷沉積、高能束陶瓷合金化與熔覆以及熱噴涂等工藝及其裝備的有關(guān)內(nèi)容，側(cè)重于相關(guān)技術(shù)應(yīng)用內(nèi)容的論述和分析。本書還扼要介紹了表面檢測分析技術(shù)及其儀器的內(nèi)容，以供對涂層分析研究時參考。全書共分7章，包括概論、陶瓷PVD、陶瓷CVD、能束陶瓷合金化及熔覆、陶瓷電火花表面涂敷和高溫自蔓延合成、陶瓷熱噴涂以及表面分析和測試等章節(jié)。 　　本書可供航空、航天、機械、材料、冶金等學(xué)科及高新技術(shù)領(lǐng)域的科技研究和應(yīng)用人員參考，也可供上述學(xué)科的高等院校的教師和研究生閱讀。

書籍目錄

第1章 概論  1.1 陶瓷的種類及性能  1.2 陶瓷表面技術(shù)概況  參考文獻(xiàn)第2章 陶瓷PVD  2.1 PVD的種類及特點  2.2 真空蒸鍍    2.2.1 真空蒸鍍的原理與特征    2.2.2 真空蒸鍍的設(shè)備及工藝    2.2.3 蒸發(fā)源    2.2.4 蒸鍍膜的性能標(biāo)準(zhǔn)及測試    2.2.5 陶瓷反應(yīng)性蒸鍍  2.3 陶瓷激光PVD    2.3.1 CO2激光蒸鍍陶瓷膜的性能和特點    2.3.2 激光蒸鍍與N離子輻射并用    2.3.3 陶瓷激光蒸鍍的應(yīng)用  2.4 陶瓷離子PVD    2.4.1 離子鍍的原理及特點    2.4.2 HCD法的工作原理及特點    2.4.3 HCD-ARE法的工作與應(yīng)用    2.4.4 陰極多弧離子鍍    2.4.5 陶瓷離子鍍的應(yīng)用實例    2.4.6 陶瓷離子鍍的新進(jìn)展  2.5 濺射成膜    2.5.1 濺射原理及特點    2.5.2 濺射方式    2.5.3 濺射設(shè)備與工藝    2.5.4 陶瓷濺射技術(shù)的應(yīng)用  參考文獻(xiàn)第3章 陶瓷CVD  3.1 CVD的基本原理    3.1.1 CVD的基本過程    3.1.2 CVD的化學(xué)反應(yīng)形態(tài)  3.2 CVD的工藝與裝置    3.2.1 基本工藝    3.2.2 典型的CVD裝置  3.3CVD 的成膜過程    3.3.1 CVD的成膜條件    3.3.2 各種陶瓷CVD膜層的種類及其性能  3.4 陶瓷CVD的應(yīng)用    3.4.1 熱CVD陶瓷膜的應(yīng)用    3.4.2 陶瓷等離子(P)CVD的應(yīng)用    3.4.3 陶瓷激光(L)CVD的應(yīng)用  3.5 CVD技術(shù)的發(fā)展展望  參考文獻(xiàn)第4章 能束表面陶瓷合金化和熔覆  4.1 激光、電子束表面合金化與熔覆過程  4.2 陶瓷的激光合金化與熔覆    4.2.1 陶瓷激光合金化    4.2.2 陶瓷激光熔覆    4.2.3 陶瓷激光熔覆的應(yīng)用及其研究  4.3 電子束合金化與熔覆    4.3.1 電子束改性原理    4.3.2 電子束表面合金化、熔覆改性的特點    4.3.3 電子束表面改性設(shè)備    4.3.4 電子束陶瓷表面合金化、熔覆工藝及其應(yīng)用  參考文獻(xiàn)第5章 陶瓷電火花涂敷與自蔓延高溫合成  5.1 電火花涂敷     5.1.1 電火花涂敷設(shè)備及其工作原理    5.1.2 電火花表面涂敷的技術(shù)特點    5.1.3 電火花涂敷工藝    5.1.4 涂敷層的特性分析    5.1.5 陶瓷電火花涂敷層的應(yīng)用  5.2 陶瓷自蔓延高溫合成簡介    5.2.1 概述    5.2.2 自蔓延高溫合成技術(shù)的特點    5.2.3 SHS燃燒合成陶瓷涂層技術(shù)  參考文獻(xiàn)第6章 陶瓷熱噴涂  6.1 概述    6.1.1 熱噴涂原理    6.1.2 熱噴涂的分類及特點    6.1.3 熱噴涂的基本工藝及設(shè)備    6.1.4 熱噴涂一般材料  6.2 氧一乙炔火焰熱噴涂與噴熔    6.2.1 氧一乙炔火焰噴涂的原理、工藝設(shè)備及其特點    6.2.2 氧一乙炔火焰噴熔  6.3 陶瓷爆炸熱噴涂    6.3.1 氧一乙炔爆炸熱噴涂的原理、特點及裝置    6.3.2 陶瓷爆炸熱噴涂材料的種類  6.4 陶瓷等離子熱噴涂    6.4.1 等離子噴涂的原理及特點    6.4.2 等離子噴涂設(shè)備    6.4.3 等離子噴熔設(shè)備    6.4.4 等離子噴涂工藝    6.4.5 陶瓷等離子噴涂技術(shù)的應(yīng)用    6.4.6 真空(減壓)等離子噴涂  6.5 其它熱噴涂方法簡介    6.5.1 液體燃燒法    6.5.2 高頻熱噴涂    6.5.3 激光噴涂與噴熔    6.5.4 電弧線材噴涂  6.6 熱噴涂技術(shù)的新發(fā)展    6.6.1 超聲速熱噴涂    6.6.2 水穩(wěn)等離子噴涂    6.6.3 復(fù)合熱噴涂處理技術(shù)  6.7 熱噴涂層的檢測    6.7.1 外觀檢測    6.7.2 涂層厚度檢測    6.7.3 涂層力學(xué)性能和常規(guī)性能檢測    6.7.4 涂層孔隙率的測定    6.7.5 涂層的功能性測定    6.7.6 涂層結(jié)構(gòu)和金相檢測  參考文獻(xiàn)第7章 表面分析與測試  7.1 表面分析    7.1.1 表面形貌和顯微組織分析    7.1.2 表面成分、結(jié)構(gòu)及其狀態(tài)分析  7.2 顯微鏡和測試技術(shù)簡介    7.2.1 電子顯微鏡(EM)    7.2.2 場離子顯微鏡(FIM)    7.2.3 掃描隧道顯微鏡(STM)    7.2.4 原子力顯微鏡(AFM)  7.3 材料結(jié)構(gòu)分析與儀器    7.3.1 X射線衍射    7.3.2 電子衍射    7.3.3 X射線光譜儀和電子探針    7.3.4 質(zhì)譜儀和離子探針    7.3.5 激光探針    7.3.6 電子能譜儀    7.3.7 彈道電子發(fā)射顯微技術(shù)    7.3.8 掃描近場光學(xué)顯微鏡和光子掃描隧道顯微鏡參考文獻(xiàn)

編輯推薦

　　本書是一部關(guān)于陶瓷技術(shù)的指導(dǎo)用書，內(nèi)容涉及概論、陶瓷PVD、陶瓷CVD、能束表面陶瓷合金化和熔覆、陶瓷熱噴涂、陶瓷電火花涂敷與自蔓延高溫合成等，適合陶瓷專業(yè)技術(shù)人員參考學(xué)習(xí)。

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