出版時間:2006-8 出版社:人民出版 作者:黑斯廷斯 頁數(shù):648
內容概要
作者Alan Hastings具有淵博的集成電路版圖設計知識和豐富的實踐經(jīng)驗。本書以實用和權威性的觀點全面論述了模擬集成電路版圖設計中所涉及的各種問題及目前的最新研究成果。書中介紹了半導體器件物理與工藝、失效機理等內容;基于模擬集成電路設計所采用的3種基本工藝:標準雙極工藝、CMOS硅柵工藝和BiCMOS工藝,重點探討了無源器件的設計與匹配性問題,二極管設計,雙極型晶體管和場效應晶體管的設計與應用,以及某些專門領域的內容,包括器件合并、保護環(huán)、焊盤制作、單層連接、ESD結構等;最后介紹了有關芯片版圖的布局布線知識。 讀者對象:本書可作為相關專業(yè)高年級本科生和研究生教材,對于專業(yè)版圖設計人員也是一本極具價值的參考書。
書籍目錄
1 Device Physics1.1 Semiconductors1.2 PN Junctions1.3 Bipolar Junction Transistors1.4 MOS Transistors1.5 JFET Transistors1.6 Summary1.7 Exercises2 Semiconductor Fabrication2.1 Silicon Manufacture2.2 Photolithography2.3 Oxide Growth and Removal2.4 Diffusion and Ion Implantation2.5 Silicon Deposition and Etching2.6 Metallization2.7 Assembly2.8 Summary2.9 Exercises3 Representative Processes3.1 Essential Features3.2 Fabrication Sequence3.3 Available Devices3.4 Summary3.5 Exercises4 Failure Mechanisms4.1 Electrical Overstress4.2 Contamination4.3 Surface Effects4.4 Parasitics4.5 Summary4.6 Exercises5 Resistors5.1 Resistivity and Sheet Resistance5.2 Resistor Layout5.3 Resistor Variation……6 Capacitors and Inductors7 Matching of Resistors and Capacitors8 Bipolar Transistors9 Applications of Bipolar Tansistors10 Diodes11 Field-Effect Transistors12 Applications of MOS Transistors13 Special Topics14 Assembling the DieAppendicesIndex
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