X射線衍射分析原理與應(yīng)用

出版時(shí)間:2003-10  出版社:化學(xué)工業(yè)出版社  作者:劉平安  
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內(nèi)容概要

本書在對X射線衍射分析原理簡單介紹基礎(chǔ)上,選出了許多有代表性的應(yīng)用實(shí)例,重點(diǎn)介紹X射線分析法在新型材料研究方面的應(yīng)用。全書共10章。第1章為概述。第2-第5章為X射線衍射分析法基礎(chǔ)理論部分。第6、第7章為X線衍射物相定性和定量分析方法。第8章為衍射系統(tǒng)的消光概念及應(yīng)用。第9章為應(yīng)用實(shí)例。第10章為Rietveld方法簡介。本書可作為高等學(xué)校化工、材料類專業(yè)有關(guān)“測試方法”、“材料結(jié)構(gòu)”課程本科生、研究生的教材,也可作為相關(guān)科研工作者及廠礦技術(shù)人員的參考書。

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用戶評論 (總計(jì)3條)

 
 

  •   非常實(shí)用,理論和實(shí)踐的東西能相互結(jié)合。
  •   內(nèi)容簡單,適合自學(xué),也很實(shí)用。
  •   這本書,總體感覺,對于真正的X實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析,幫助并不是特別的大,并且感覺圖書有些厚重,內(nèi)容很翔實(shí)??傮w感覺還是不錯(cuò)的,但是如果考慮到其跟實(shí)際的xrd的分析還是有些不相符,或者是各種xrd分析軟件太多造成的,所以給個(gè)一般的評價(jià),不過如果想購買xrd相關(guān)圖書的讀者,這本書還是非常好的選擇。
 

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